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mcemagnet grain boundary diffusion

钕铁硼磁控溅射渗镝渗铽

磁控溅射其实是一种镀膜的方法,属于物理气相沉积的一种,具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点。磁控溅射需要使用专门的设备,基片(被镀膜的物体)和靶材(镀膜物质,如铜、铝等)放入设备中,抽真空后注入氩气开始溅射反应。

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